- Otsas
Cosrx Hydrium Triple Hyaluronic Moisturizing Cleanser näopuhastusgeel hüaluroonhappe kompleksiga - 150 ml
Cosrx Hydrium Triple Hyaluronic Moisturizing Cleanser on hüaluroonhappe kompleksiga näopuhastusgeel, mis puhastab nahka õrnalt ja hoolikalt, kõrvaldab igat tüüpi mustusi, hoiab optimaalset niiskustaset. Kaitseb nahka voolava vee negatiivsete mõjude eest, taastab loodusliku pH taseme ning hoiab ära dehüdratsiooni.
Näopuhastusgeel mõjub epidermise ülemisele kihile õrnalt, lahustab rasukorke ja mustad täpid, ahendab poore ja ühtlustab mikroreljeefi. Ei riku naha kaitsvaid omadusi, normaliseerib hüdrolipiidide tasakaalu.
Veega kokkupuutel moodustab toode lopsaka, rikkaliku vahu, mis toimib nahapinnal delikaatselt, eemaldab liigse rasu, õlise läike, meigijäägid ja mustuse, jättes nahal tekitamata tihedust ja kiletaolist tunnet.
Peamised toimeained:
Kolme tüüpi hüaluroonhape niisutab sügavalt kõiki epidermise tasemeid. Niisutab aktiivselt rakke, aitab säilitada naha niiskust.
Pantenoolil (vitamiin B5) on tervendav toime, leevendab põletikku ja punetust. Parandab niiskuse tungimist naharakkudesse, stimuleerib kollageeni ja elastiini sünteesi. Pantenool neutraliseerib ultraviolettkiirguse mõju, muudab naha siledaks ja elastseks.
Sobib igat tüüpi nahale.
Kasutamine: võtke väike kogus geeli, hõõruge see käte vahel vahtu ja kandke masseerivate liigutustega niiskele näonahale. Loputage sooja veega.
Koostis: Water, Glycerin, Stearic Acid, Myristic Acid, Lauric Acid, Potassium Hydroxide,Palmitic Acid, Potassium CocoylGlycinate, Coco-Glucoside, Glyceryl Stearate,Fragrance(Parfum), Polyquaternium-7, Acrylates/C10-30 Alkyl AcrylateCrosspolymer, Sodium CocoylIsethionate, Arachidic Acid, Disodium EDTA, 1,2-Hexanediol, Oleic Acid, Sodium Benzoate,Quillaja Saponaria Bark Extract, CitricAcid, Butylene Glycol, Panthenol, Hyaluronic Acid,Ethylhexylglycerin, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate